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化学 高校生

問8 解説に、不飽和度は2以上とありますが、なぜでしょうか。どなたか教えてください🙇‍♂️

早稲田大基幹理工・創造理工・先進理工 48 2021年度 化学 間2 実験2で得られたアルデヒドGの物質名を答えなさい。 問3 化合物A~Hの中で,不斉炭素原子を有する化合物をすべてび 解答欄の該当する記号を○で囲みなさい。 問4 化合物A~Hの中で, ヨウ素と水酸化ナトリウム水溶液を加えて 加熱すると黄色沈殿が生成する化合物をすべて選び, 解答欄の該当す る記号を○で囲みなさい。 問5 化合物として考えられるすべての構造を「水素Hの価標を省 略して簡略化した構造式」 *2 で書きなさい。 (2) 油脂Pを加水分解したところ, グリセリンと飽和脂肪酸 Q, 不飽和 素ナトリウムと完全に反応させたところ, 必要な炭酸水素ナトリウムは 脂肪酸 R, 不飽和脂肪酸 S が得られた。 飽和脂肪酸 Q14.2gを炭酸水 4.20g であった。 また, 不飽和脂肪酸 R と不飽和脂肪酸Sは水素を付 加させることにより,いずれも飽和脂肪酸 Q を与えた。 一方, 不飽和 脂肪酸Rは以下の①の反応により、炭素数が同じである化合物と化 合物 U を同じ物質量与えた。ここで, 化合物Tはカルボキシ基を1つ もち,化合物Uはカルボキシ基を2つ持っていた。一方,不飽和脂肪 酸S3.50g に臭素を完全に反応させたところ,化合物 V が 7.50g 得ら れた。 OT 14 WANTIE H2SO4 DY 1² BAJ* R2 R¹ R²2 KMnO4 R¹ H H HRAGASCAR 0 +9 問6 不飽和脂肪酸R の分子式を答えなさい。 問7 化合物と化合物 U を比較した際に正しいものを(ア)~(オ)からす べて選び、解答欄の該当する記号を○で囲みなさい。 (ア) 化合物Tよりも化合物 Uの方が親水性が強い。 -OH+HO- (イ)化合物Tの融点は, 化合物 Uの融点より低い。 (ウ) 同じ質量の化合物Tと化合物 U をそれぞれ燃焼した際には、同 じ体積のCO2 が得られる。 SH*** (エ) 同じ物質量の化合物Tと化合物 Uをそれぞれ燃焼した際には, 同じ質量のH2Oが得られる。 (オ) 同じ物質量の化合物Tと化合物 Uをそれぞれ炭酸水素ナトリウ 早稲田大基 問8 問9 ム たが のう 四捨 問10 BAO

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化学 高校生

RHEED法の原理と得られる7つの情報が、この英文に書かれているみたいなのですが、よく分かりません。 分かる方助けてください!🙇‍♂️

INTRODUCTION Reection high-energy electron diHiraction (RHEED) uses a Rnely collimated electron beam with energy of 10-100 keV. The beam irradiates a sample surface with gazing incidence to obtain forward scattered difraction patterms. RHEED enables us to analyze structures of crystal surfaces at atomic levels and also to in situ monitor growth processes of thin films (mo、1988: Ichimiya and Cohen、2004: Peng et al.. 2011). From the arrangement。intensity and profile of the dilraction spots in RHEED patterns as described below in detail、 one can obtain various kinds of information: (1) the periodicity (unit cells) in atomic arrangements. (2) flat- ness of surfaces. (3) sizes of grains/domains of surface structures and microcrystals grown on the surface. (3) epitaxial relation between the grown flms/islands with respect to the substrate. (5) parameters character- izing structural phase transitions. (6) individual atomic positions in the unit cells. and (7) growth styles of thin films and numbers of atomic layers grown. The most important advantages of the method are that it is quite easy to install the RHEED apparatus in Yarious types of vacuum chambers without interfering with other components of apparatuses and to do real- time monitoring during thin-Rlm growths. Because of these advantages.RHEED is nowwidelyusednotonlyin research Iabs of surfaces and thin fims. but also in device production processes in industry Low-energy electron diiraction (LEED、see article Low-ENNERcy ErecroN DirscmoN)。 in which an electron beam of 10-100 eV in energy is irradiated onto a sample surface with nearly normal incidence to obtain back- scattered difraction patterns. is also widely used to analyze the atomic structures of crystal surfaces. Since one has to make the sample face directly to the LEED

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