Question

陳小婷

求39題詳解

(A)
时间
(B)
)38.矽(Si)是半導體科技發展的關鍵元素,在高溫下氫氣(He)與四氯化矽(SiCl4)反應,可製取高純度的矽,此化
學反應式為2 Hz + SiCl4 → Si + HCl(反應式未平衡),判斷下列敘述何者正確?(原子量:H = 1,Si =
28,Cl = 35.5)
(A)平衡後,HCl 的係數為2
(C)平衡後,Hz 的係數為2
(B)平衡後,Si的係數為4
(D)化學反應式中的係數比等於各物質的質量比
7)39.呈上題,若準備340公克的四氯化矽與10公克的氫氣進行反應,已知生成W莫耳的矽與292公克的鹽酸,尚有
2 公克的氫氣並未反應,則W應為多少?(原子量:Si=28,C1= 35.5)
(A)28 (B)2 (C)4 (D)56

Answer 1

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如圖

陳小婷

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